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美光作为DRAM行业的龙头,但是在工艺进度上一直比较稳健,称得上是精打细算,10nm工艺上面更是玩出花样,其中1xnm已经十分成熟,1ynm目前正在扩充产能,生产对象有12Gb LPDDR4X、16Gb DDR4颗粒等。之前美光已经宣布将在广岛工厂投产1znm,并在2020财年(今年9月开始)投入量产,据称会主要用来生产16Gb LPDDR5、DDR5颗粒。按照DRAM行业的惯例,接下来将是突破10nm级工艺,但是工艺进入个位数时代是在太难,因而美光准备了至少三种新的10nm级工艺:1αnm、1βnm、1γnm。
至此,美光总计有六种10nm级工艺,一个比一个更逼近10nm,不过具体细节美光暂未披露,只是说会在1βnm、1γnm阶段会用上沉浸式四重曝光技术,比现在的双重曝光、三重曝光更复杂。同时,美光还在评估EUV极紫外光刻技术,预计届时只需双重曝光,可大大降低工艺复杂度,但具体什么时候、在哪代工艺上使用,美光还没有做出决定。此外,美光透露,还会用这种颗粒制造单条64GB容量的RDIMM服务器内存。
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